因資通訊電子產(chǎn)品行動(dòng)化的發(fā)展趨勢(shì)下，具有高密度3D配線(xiàn)功能及高可靠性的軟板，近年來(lái)需求持續(xù)快速成長(zhǎng)。預(yù)期未來(lái)全球軟板受惠于3G智慧型手機(jī)、數(shù)位相機(jī)及顯示器對(duì)軟板的需求將有加溫的效果，可以維持每年8-10%成長(zhǎng)幅度。

      依據(jù)現(xiàn)今國(guó)際第一大軟板制造商，日本的NOK公司所制定之Roadmap （表1）來(lái)看，軟板制程將由50um進(jìn)程到2007年的30um pitch,為符合這樣的技術(shù)需求，傳統(tǒng)以減去法制作的軟板制程將會(huì)有重大改變，強(qiáng)調(diào)細(xì)線(xiàn)路的加成或者半加成法將浮出臺(tái)面。

表1.NOK公司的軟板技術(shù)Roadmap

資料來(lái)源：NOK 2005 JPCA show

       當(dāng)然因應(yīng)應(yīng)用產(chǎn)品需求所衍生的制程技術(shù)改進(jìn)，也同時(shí)帶動(dòng)軟性基板材料的發(fā)展，表二是以專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)高階2L-FCCL的新日鐵化學(xué)所做的該公司技術(shù)Roadmap ,該公司是以其所生產(chǎn)的軟性銅箔基板材料的發(fā)展，作了這一份軟板材料技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)。薄銅（9um）及薄基材（Base Film＜12.5um）與高階無(wú)接著劑型軟板材料（2L-FCCL）使用率將逐年增加，甚至強(qiáng)調(diào)具有環(huán)?？苫厥张c低吸濕（＜0.5%）及高尺寸安定性（＜0.01%）的非PI系新基材將會(huì)逐漸出現(xiàn)在市場(chǎng)上。另一家軟板材料廠(chǎng)一三井化學(xué)所做的軟板材料技術(shù)Roadmap(表3)，這也是該公司發(fā)展的高階軟性基板材料為基本所定下的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)，以應(yīng)用及制程需求觀點(diǎn)來(lái)描述新一代軟板材料的發(fā)展趨勢(shì)。由以上兩家先導(dǎo)軟板材料公司所做的技術(shù)預(yù)測(cè)來(lái)看，現(xiàn)今軟板材料的發(fā)展方向?qū)⒊虬ㄒ槐⌒突?、高耐折、超高尺寸安定、超低吸濕（水）、高傳輸特性等，總體而言是圍繞在搭配應(yīng)用產(chǎn)品所需的高密度、輕量及高可靠的趨勢(shì)而發(fā)展。而且兩家公司所做的技術(shù)預(yù)測(cè)內(nèi)容及趨勢(shì)大同小異，在整體材料技術(shù)發(fā)展向上呈現(xiàn)出一致的觀點(diǎn)。

表2.新日鐵化學(xué)公司軟板材料技術(shù)Roadmap

表3.三井化學(xué)公司軟板材料技術(shù)Roadmap

      我國(guó)軟板制造技術(shù)皆跟隨日本技術(shù)之后發(fā)展，主要原因是關(guān)鍵上游原物料及基板材料掌握在日本手上，近年來(lái)雖然在傳統(tǒng)3L-FCCL基板材料方面已逐漸建立自主化，自制率已超過(guò)70%，但在高階2L-FCCL基板材料還是掌握在日本手上，尤其應(yīng)用于IC（顯示器驅(qū)動(dòng)IC）軟性載板的基材幾乎被日商由材料、制程設(shè)備與制造技術(shù)所壟斷，此一現(xiàn)象不僅使我國(guó)軟板產(chǎn)業(yè)鏈無(wú)法完整建構(gòu)，同時(shí)使得我國(guó)在軟板制程技術(shù)上落后日本先進(jìn)技術(shù)3年以上。這一現(xiàn)象已不僅是我國(guó)軟板產(chǎn)業(yè)所面臨的關(guān)鍵問(wèn)題，對(duì)于其背后所支撐的光電顯示器，及高階資通訊電子產(chǎn)業(yè)都將造成重大影響。

      另外因軟性電子產(chǎn)業(yè)興起，使得原本即具有可撓特性的軟板被認(rèn)為在此一先端技術(shù)應(yīng)有角色扮演之空間，但必須在原有軟板結(jié)構(gòu)中賦予新功能，例如整人被動(dòng)及主動(dòng)元件，或是結(jié)合顯示功能，使整體基板功能化。也必須在基板材料上更強(qiáng)調(diào)吸濕與高尺寸安定性，甚至需要有透明基材的開(kāi)發(fā)，以因應(yīng)軟性顯示器的需求，當(dāng)然這些是較長(zhǎng)程的技術(shù)開(kāi)展課題。

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